投射電容式觸摸顯示屏的結構
自從iPhone采用投射電容式觸摸顯示屏以來,短時間內(nèi)涌現(xiàn)了大量結構設計方案。投射電 容式觸摸顯示屏的特點是,感應器在觸摸顯示屏表面以下,外覆有保護玻璃。一些正在開發(fā)的新產(chǎn)品 采用了單面設計,即所有的感應層都設計在單一基板的一面上。在這個目前最薄的投射電容 式觸摸顯示屏設計中,每一層采用積層濺射工藝?;趦蓪油该鲗щ妼拥耐渡潆娙菔接|摸顯示屏的基 本原理,在設計上可以作出各種變化。例如,用超微細(lO^ni)導線可以替代某層,從而 少濺射一層ITO。目前市面上的絕大多數(shù)手機和簽名采集板在不同PET層上鍍有IT0,此外 常見的觸摸顯示屏也是使用雙面鍍層或在兩層基板上單面鍍層的ITO鍍層玻璃。
(1) 觸摸顯示屏導體
方塊電阻通常采用15011/口(單位為n/(m2*mil))的ITO涂層玻璃加工,要形成線 寬20pm的圖樣,需要用光蝕刻技術完成,比如在LCD面板廠工藝上使用的光刻消融劑。 ITO越厚,電阻越小,信噪比越好,但是透光率差;反之ITO越薄,透光率越好,但信噪比 更差。用PET (透明塑料,主要制造礦泉水瓶)作基板時,線寬通常是100 ~200jim,可以 使用絲網(wǎng)印制、光蝕刻或激光切割,在PET上制作線寬30 ~5(Vm的網(wǎng)紋圖樣的工藝還在研 究中。實際應用中,最下面還有第3層IT0用作屏蔽層以隔絕LCD的干擾,屏蔽層通常采 用150 ~300fi/□的方塊電阻。觸摸顯示屏邊框上的信號線通常為鉬/鋁/鉬材料,同樣是采用真 空磁控濺射工藝在ITO濺鍍之后鍍上。

(2) 膜層圖樣
在投射電容式觸摸顯示屏中,ITO膜可以設計蝕刻成各式各樣,但制造成本是一樣的,并且 由于觸摸傳感器和電子控制系統(tǒng)的高度相關性,很難說哪種圖樣優(yōu)于其他圖樣。
早期iPhone的投射電容式觸摸顯示屏采用的圖樣是最簡單的一種:玻璃兩面的IT0前面蝕 刻成10列、線寬lram、間距5mm的列排列層,背面蝕刻成15行、線寬5mm、間距37^m 的行排列層,列排列層10列之間保留了不連線(孤立)的條以保持統(tǒng)一的光學效果。這種 設計對工藝要求簡單,但需要控制器的處理能力強以生成精確坐標。
最常見的圖樣是連鎖菱形(實為正方形45°斜放),這種圖樣的電極島之間連接可靠 (連線最短),且最大程度充分利用了屏幕面積來感應手指電容,菱形圖樣分成互補的兩層, 一層是水平菱形行,一層是垂直菱形列,導線交叉部位像小橋。菱形島的尺寸大小取決于制 造商,通常在4 ~8mm之間,目前大部分投射電容式觸摸顯示屏都采用菱形圖樣。
(3) 邊框
投射電容式觸摸顯示屏設計中很重要的一個成本原因是觸摸顯示屏邊框,與傳統(tǒng)模擬電阻式觸摸 屏只有4根或5根信號線不同,投射電容式觸摸顯示屏有40根甚至更多的連接引線,因為每一 行和列必須連至控制器(或連至設計在軟膜線中間的電容數(shù)字信號處理芯片),因此投射電 容式觸摸顯示屏的邊框尺寸較大。以前常用的工藝是用銀油墨絲網(wǎng)印制寬1mm、間距1mm的 導線。
新款手機一直在追求輕薄邊框,為實現(xiàn)這個目標,出現(xiàn)過一種參考TFT液晶面板的類 似技術,這種技術是通過多次濺射和蝕刻,從而在邊框上形成多層布線,該工藝增加了一定 的生產(chǎn)成本。采用50 ~10(Vm線寬和間距的精細銀絲網(wǎng)印制相比多層濺射會降低成本,但 目前工藝的附著性都不好,這樣就需要銀線伸出到基板外,同樣會加成本。當然,如果觸摸 屏設備不需要嵌人安裝、允許容忍較大的邊框,則成本可大幅降低。
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