在電容式觸摸顯示屏中，投射型的產(chǎn)品的發(fā)展如火如荼。如第2章內(nèi)容所 述，它與電阻式觸摸顯示屏不同，在不使用透明導(dǎo)電性玻璃時，利用多張透明導(dǎo) 電薄膜粘合而成。因此，電容式觸摸顯示屏之間不存在空氣層，能夠大大降低界 面的反射，從而避免了干涉條紋和強(qiáng)光的問題，所以說它擁有優(yōu)越的光學(xué)性 能?，F(xiàn)階段，雖然不適合文字輸入，但它可以實現(xiàn)多點(diǎn)輸入操作。

　　它是通過檢測透明電極的電量變化的方式來實現(xiàn)觸摸的。透明電極是通 過粘合層把多層透明導(dǎo)電膜粘合在一起，在經(jīng)過層壓技術(shù)完成的。因此通過 設(shè)計消除IT0膜與沒有IT0膜部分的不同的可讀性，顯得格外重要。一般來 說，形成模式圖案后，抑制IT0膜和沒有IT0膜的部分的反射率以及透過和 反射時產(chǎn)生的顏色的差異，也很重要。觸摸顯示屏還要考慮到無彩色化。為了更 接近玻璃的顏色，需要降低霧度。此外，由于使用粘合層層壓工藝，保持透明導(dǎo)電性與粘合層的一致性也很重要。

　　模擬電阻式觸摸顯示屏，可以實現(xiàn)文字輸入。透明導(dǎo)電膜面內(nèi)電阻的均一性 對能否正確地輸入文字的影響很大。用于模擬電阻式觸摸顯示屏的表面電阻一般 為200?10001V□，考慮到觸摸顯示屏的檢測精度和功耗，500(1/□左右的電阻 值是最理想的。

　　制作ITO膜主要是通過物理氣相沉積中的濺射工藝完成的。濺射成膜是 在真空裝置中，通過真空放電，將惰性氣體電離，離子在電場作用下加速運(yùn) 動，轟擊靶材，撞擊出的靶材粒子飛到基板上堆積形成薄膜的一種方法。濺 射成膜的均一性好，長期質(zhì)量穩(wěn)定，適合長期、批量生產(chǎn)。電阻值的均一性 對模擬電阻式觸摸顯示屏顯得格外重要，所以濺射成膜最適合制作該類型的透明 導(dǎo)電膜。

　　薄膜基板上的ITO線電阻一般是3 x 1CT4?1 x 10_311 • cm。薄膜基板優(yōu) 點(diǎn)是柔韌性好、輕薄、不易破碎、成本低。缺點(diǎn)是容許使用的溫度范圍小， 對ITO成膜工藝有所限制。PET薄膜允許的溫度在100多攝氏度，在該溫度 下沉積ITO薄膜的結(jié)晶度不好，直接影響到ITO薄膜的性能。為了克服上述 的缺陷，開發(fā)出低溫非晶ITO薄膜工藝，再通過退火工藝，重結(jié)晶化，完成 高性能ITO薄膜的制作。